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下載方案

• 測試元素： 氫(H) – 鈾 (U)，~76個元素
• 含量范圍：0.X ppm級 至 %含量
• 測試深度：表面（納米）至幾百個微米
• 測試精度：含量 – RSD 優(yōu)于2%
深度 – RSD 優(yōu)于5%
• 涂鍍層種類：- PVD / CVD / ECD
- 電鍍（鋅、銅、鎳、鉻、鈦、錫等各類金屬涂
鍍層）
- 磷化、鈍化等各類化學層
- 薄膜電池 / 柔性電池（CIGS, LIB ….)，
- 非晶硅、碲化鎘、銅鋅錫硫化物等
- 類金剛石涂層
- 熱處理（滲碳、滲氮、共滲等…)
- 真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜
• 適合樣品：- 導體材料表面各類涂鍍層（導體或非導體）
- 非導體材料表面各類涂鍍層（導體或非導體）
- 薄膜/柔性材料表面各類涂鍍層

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